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刻蚀设备技术有所突破

发布时间:2021-01-30 作者:admin 来源:网络整理 浏览:


导读:事件 : 中微公司(688012) 发布2019年年报。2019年公司营业收入为19.47亿元,同比增长18.77%;归母净利润为1.89亿元,同比...

  刻蚀办法技术有所冲破,客户拓展顺利。依据公司公告,公司CCP刻蚀办法批量应用于国表里一线客户的集成电路加工制造,公司已胜利获得5纳米逻辑电路、64层3DNAND制造厂的订单。在验证顺利的状况下,公司将紧跟客户的消费方案、量产需求有序制定消费方案。别的,公司的电容性等离子体介质刻蚀办法已应用于64层闪存器件的量产,股票配资,正在开发新一代涵盖128层和更先进关键刻蚀应用的刻蚀办法和工艺。公司的电感性ICP等离子刻蚀办法已经在多个逻辑芯片和存储芯片厂商的消费线上量产,正在停止下一代产品的研发,以满足7纳米以下的逻辑芯片、1X纳米的DRAM芯片和128层以上的3DNAND芯片等产品的刻蚀需求。
  MOCVD办法应用连续拓展。依据公司公告,配资,除应用于蓝光LED的办法,公司应用于深紫外LED的MOCVD办法已有产品在某先进客户验证胜利。而且,公司MiniLED的技术验证也在一直推进中,公司MOCVD办法应用连续拓展。

 刻蚀办法技术有所冲破

  投资建议:大约2020~2022年公司净利润别离为2.83亿元、4.01亿元和5.47亿元,股票配资网,对应EPS别离为0.53元、0.75元、1.02元,给与增持-A评级。

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  事件中微公司(688012)发布2019年年报。2019年公司营业收入为19.47亿元,同比增长18.77%;归母净利润为1.89亿元,同比增长107.51%;扣非归母净利润为1.48亿元,同比增长41.48%,业绩合乎预期。
  半导体行业周期景气上行,公司逐渐步入业绩释放期。在5G以及数据中心的动员下,目前半导体的各项指标在逐步上升。依据SEMI预测,2020年中国半导体办法需求量有望快捷增长至145.0亿美圆,最好的股票配资网,同比增长24.0%,占世界投入总额的24.7%,首居第一位。受益于国内半导体行业的快捷开展以及公司技术的一直提升和客户承认度的连续进步,股票配资网,公司各项业务有望进入业绩释放期。
  盈利才华大幅提升,研发费用率维持增长。2019年公司净利率为9.71%,同比提升4.17Pct,公司净利率有所提升的起因在于股份支付费用减少带来的打点费用率和销售费用率的减少以及利息收入增多带来的财务费用率的下降。此外,2019年公司研发费用率为12%,同比提升4.79Pct,公司研发投入强度间断三年保持增多,研发才华一直加强。